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Track工艺简介.pdf
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002/1/28 摘要 本文简要介绍关于涂胶、显影工艺的一些相关内容。 引言 超大规模 IC 对光刻有五个基本要求,即:高分辨率、高灵敏度、精密的套刻 对准、低缺陷和大尺寸上的加工问题(如温度变化引起晶圆的胀缩等)。这五个 基本要求中,高分辨率、高灵敏度和低缺陷与涂胶、显影工艺有很密切的关系。 第一节 涂胶工艺 1 光刻胶 光刻胶主要由树脂(Resin)、感光剂(Sensitizer)及溶剂(Solvent) 等不同材料混合而成的,其中树脂是粘合剂(Binder), 感光剂是一...
- 上传者:Wt**oy 2024-04-24 13:48:06 文档 学习
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REMOTE TCP 功能
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P(如胶枪、打磨机等)处进行相关作业(如涂胶、打磨等),并保持运动的稳定性和轨迹的恒定性。 使用 REMOTE TCP,有以下特点: ......
- 上传者:Al**ne 2023-10-18 18:41:08 文档 学习
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